2023年11月27-30日，第九屆國際第三代半導(dǎo)體論壇（IFWS）&第二十屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇（SSLCHINA）于廈門國際會(huì)議中心召開。本屆論壇由廈門市人民政府、廈門大學(xué)、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟（CASA）、中關(guān)村半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟（CSA）主辦，廈門市工業(yè)和信息化局、廈門市科學(xué)技術(shù)局、廈門火炬高新區(qū)管委會(huì)、惠新(廈門)科技創(chuàng)新研究院、北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進(jìn)中心有限公司承辦。

27日，“Mini/Micro-LED及其他新型顯示技術(shù)分會(huì)”如期舉行，本屆分會(huì)得到了三安光電股份有限公司、納微朗科技（深圳）有限公司、 中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司、佛山市國星光電股份有限公司、廣東晶科電子股份有限公司、深圳市大族半導(dǎo)體裝備科技有限公司 的協(xié)辦支持。

會(huì)上，北京大學(xué)教授陳志忠?guī)砹恕袄脺喜劢Y(jié)構(gòu)生長高效率InGaN紅光”的主題報(bào)告，分享了溝槽結(jié)構(gòu)的調(diào)制與高In含量InGaN的生長、溝槽結(jié)構(gòu)對(duì)MQW發(fā)光的影響、溝槽的微觀結(jié)構(gòu)與發(fā)射特性等研究進(jìn)展與成果。

研究創(chuàng)新性地利用溝槽缺陷來提高紅色I(xiàn)nGaN LED的發(fā)光效率。XRD RSM結(jié)果表明，由于溝槽缺陷的應(yīng)變弛豫效應(yīng)，波長紅移歸因于In成分的增加。高光譜CL成像和共焦PL結(jié)果表明，發(fā)光增強(qiáng)源于溝槽缺陷內(nèi)部的強(qiáng)發(fā)射。特別是在低注入時(shí)，溝槽內(nèi)的紅色MQW是發(fā)射的主要貢獻(xiàn)者。溝槽內(nèi)比溝槽外更強(qiáng)的發(fā)光主要?dú)w因于屏蔽效應(yīng)、較弱的極化電場和較低的缺陷密度。總的來說，這項(xiàng)研究提供了對(duì)溝槽缺陷的新認(rèn)識(shí)，并探索了實(shí)現(xiàn)高效紅色I(xiàn)nGaN LED的新途徑。

（備注：以上信息僅根據(jù)現(xiàn)場整理未經(jīng)嘉賓本人確認(rèn)，僅供參考！）